超高纵横尺寸比之介电材料蚀刻

摘要

一种蚀刻方法，用以藉由一碳基底遮罩蚀刻一超高纵横尺寸比特征部于一介电层中。透过该碳基底遮罩选择性蚀刻该介电层，其中该选择性蚀刻步骤于该碳基底遮罩上产生氟碳基底聚合物的净沉积。中止该选择性蚀刻。利用一修整步骤自该碳基底遮罩选择性移除该氟碳聚合物，使得该碳基底遮罩残留。中止该选择性移除氟碳聚合物步骤。透过该碳基底遮罩再一次选择性蚀刻该介电层，其中该第二选择性蚀刻步骤于该碳基底遮罩上产生氟碳基底聚合物的净沉积。