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发明名称
离子源
摘要
本发明涉及一种离子源,其包括:一真空容器,该真空容器具有一气体入口以及一离子出射孔;一离子电极,该离子电极设置于所述真空容器的离子出射孔处;以及一场发射电子源设置于所述真空容器中,其中,该场发射电子源的电子出射部形成于阴极电极上,以使电子发射体的电子发射端不会通过电子出射部暴露,故,当电子发射体发射的电子与真空中游离的气体分子碰撞产生离子向电子引出电极方向运动时,该离子不会轰击到该电子发射体,从而使该电子发射体具有较长寿命。
申请公布号
TWI407476
申请公布日期
2013.09.01
申请号
TW099123357
申请日期
2010.07.15
申请人
鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号
发明人
柳鹏;周段亮;陈丕瑾;胡昭复;郭彩林;杜秉初;范守善
分类号
H01J27/20
主分类号
H01J27/20
代理机构
代理人
主权项
地址
新北市土城区自由街2号
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