化学溶液及使用该溶液处理基板之方法

摘要

揭露用以至少去除于基板之有机薄膜图案表面上形成的阻隔层，阻隔层至少包括因有机薄膜图案表面变化而形成之变形层，与沉积物沉积于有机薄膜图案表面而形成之沉积层之一，化学溶液包含至少具有羟基胺衍生物与肼衍生物之一的第一成分水溶液，以及具显影功能之第二成分。