| 摘要 |
一种光学微影曝光系统及其曝光方法，系利用光束将图案曝光至基材上，包括：具有一转轴并以该转轴为中心旋转之滚筒、绕设于该滚筒外表面之基材、滚筒操控设备及光路操控设备。滚筒操控设备量测该滚筒并依据所量测的结果操控该滚筒，以补偿该滚筒以该转轴为中心旋转所产生的位置及/或姿态的改变。光路操控设备包括将该光束分为曝光用光束和量测用光束之光学元件组和承载该光学元件组之移动平台，且移动平台平行该滚筒的转轴轴心方向进行线性移动以使该曝光用光束和该滚筒之间产生相对运动而将该图案曝光至该基材上，并依据该滚筒操控设备所量测的结果而补偿该滚筒于旋转过程中的位置及/或姿态的改变。据此，可提高曝光至基材上的图案的精密度。 |
