发明名称 |
正向可光成像之底部抗反射涂层 |
摘要 |
本发明系关于一种正向底部可光成像之抗反射涂层组合物,其能够于硷性显影剂水溶液中显影,其中该抗反射涂层组合物包含:聚合物,其包含至少一具有发色团之重复单元,及一具有一羟基及/或一羧基之重复单元;乙烯醚终端之交联剂;及视情况之光酸产生剂及/或酸及/或热酸产生剂。本发明进一步系关于一种使用此组合物之方法。 |
申请公布号 |
TWI407257 |
申请公布日期 |
2013.09.01 |
申请号 |
TW100147535 |
申请日期 |
2005.03.07 |
申请人 |
AZ电子材料IP股份有限公司 日本 |
发明人 |
隋郁;吴恒鹏;康文兵;奈瑟斯 马克O;片山朋英;丁术季;菱田有高;欧伯蓝德 乔瑟夫E;桃奇 麦德哈特A |
分类号 |
G03F7/039;G03F7/11;G03F7/38;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |