发明名称 正向可光成像之底部抗反射涂层
摘要 本发明系关于一种正向底部可光成像之抗反射涂层组合物,其能够于硷性显影剂水溶液中显影,其中该抗反射涂层组合物包含:聚合物,其包含至少一具有发色团之重复单元,及一具有一羟基及/或一羧基之重复单元;乙烯醚终端之交联剂;及视情况之光酸产生剂及/或酸及/或热酸产生剂。本发明进一步系关于一种使用此组合物之方法。
申请公布号 TWI407257 申请公布日期 2013.09.01
申请号 TW100147535 申请日期 2005.03.07
申请人 AZ电子材料IP股份有限公司 日本 发明人 隋郁;吴恒鹏;康文兵;奈瑟斯 马克O;片山朋英;丁术季;菱田有高;欧伯蓝德 乔瑟夫E;桃奇 麦德哈特A
分类号 G03F7/039;G03F7/11;G03F7/38;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本