电气接点材料及其制造方法

摘要

本发明之电气接点材料，系在导电性基体上设有算术平均粗糙度Ra＝(A)μm之由贵金属或者以贵金属为主成分之合金构成之第1层以及皮膜厚度为0.001×(A)μm以上、(A)μm以下之位于该第1层上层且由贵金属或者以贵金属为主成分之合金构成之第2层，其特征在于：形成该第1层之贵金属或形成该第1层之合金之主成分之贵金属、与形成该第2层之贵金属或形成该第2层之合金之主成分之贵金属系不同元素。