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发明名称
用以使玻璃基板平滑之方法,及由该方法所得供EUV微影技术中之反射性光罩基底用的基板
摘要
提供一种用以使具有下凹缺陷(如,凹点或刮痕)的玻璃基板表面平滑之方法。;一种用以使其上具有下凹缺陷的玻璃基板表面平滑之方法,包含:藉无水淀积法,在具有下凹缺陷的玻璃基板表面上形成膜,此膜包含流动点Tf为150℃或以上且不高于玻璃基板之应变点Ts(℃)的玻璃材料;及于不低于Tf且不高于Ts的温度加热此玻璃材料的膜,而使得膜处于玻璃材料的膜可流动以掩埋下凹缺陷的状态,之后冷却玻璃材料的膜,藉此而使得具有下凹缺陷的玻璃基板表面平滑。
申请公布号
TWI406833
申请公布日期
2013.09.01
申请号
TW096109571
申请日期
2007.03.20
申请人
旭硝子股份有限公司 日本
发明人
宇野俊之;生田顺亮;横山美香;海老原健
分类号
C03C17/00;H01L21/027
主分类号
C03C17/00
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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