发明名称 气障壁性膜、气障壁性层合体及其制造方法
摘要 本发明,系提供气障壁性之湿度所致依附性少,即使拉伸亦不产生膜破裂之优异气障壁性层合体,其构成上之特征,系含有改性乙烯醇系聚合物(B)之不饱和羧酸化合物多价金属盐(a)之聚合物(A)所成为其特征之气障壁性膜,以及,基材层之至少单面形成此等气障壁性膜所成气障壁性层合体及基材层之至少单面,含有改性乙烯醇系聚合物(B)之聚合度未达20之不饱和羧酸化合物多价金属盐(a)之溶液予以涂装后,藉由聚合而而使含有改性乙烯醇系聚合物(B)之不饱和羧酸化合物金属盐(a)之聚合物(A)层形成为其特征之气障壁性层合体之制造方法。
申请公布号 TWI406763 申请公布日期 2013.09.01
申请号 TW095132031 申请日期 2006.08.30
申请人 东赛股份有限公司 日本 发明人 袴田智宣;野本晃;中村修;井上佳尚;鹤来交;田边信央;山本喜博
分类号 B32B27/30;C08L33/02;C08L29/04 主分类号 B32B27/30
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本