| 摘要 |
Gemäß einer Ausführungsform besitzt eine erste Vakuumkammer einer Elektronenstrahlsäule eine Öffnung, die entlang der optischen Achse angeordnet ist, so dass sich ein originärer Elektronenstrahl nach unten in der Säule bewegen kann. Eine Elektronenquelle ist in der ersten Vakuumkammer angeordnet. Eine strahlbegrenzende Blende ist derart ausgebildet, dass ein begrenzter Winkelbereich der emittierten Elektronen durchgelassen wird. Eine magnetische Immersionslinse ist außerhalb der ersten Vakuumkammer ausgebildet, wobei die magnetische Immersionslinse derart ausgebildet ist, dass die Elektronenquelle in ein magnetisches Feld eintaucht, um die emittierten Elektronen in den originären Elektronenstrahl zu fokussieren. Eine Objektivlinse ist derart ausgebildet, dass der originäre Elektronenstrahl in einen Strahlfleck auf einer Substratoberfläche fokussiert wird, so dass Streuelektronen vom Strahlfleck aus erzeugbar sind. Eine steuerbare Ablenkeinrichtung ist derart ausgebildet, dass der Strahlfleck über ein Gebiet der Substratoberfläche gescannt wird.
|
