| 发明名称 | 季铵盐型阳离子表面活性剂和一种化学机械抛光液的应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了季铵盐型阳离子表面活性剂在制备低介电材料的化学机械抛光液中的应用，还公开了一种化学机械抛光液在抛光低介电材料的中的应用，其包含：研磨颗粒、季铵盐型阳离子表面活性剂、腐蚀抑制剂、络合剂、氧化剂和水。本发明的应用中，季铵盐型阳离子表面活性剂以及含其的抛光液可以抑制低介电材料(如BD)的抛光速率，而对铜、钽和二氧化硅(Teos)的去除速率影响不大。 | ||
| 申请公布号 | CN101665664B | 申请公布日期 | 2013.08.28 |
| 申请号 | CN200810042571.6 | 申请日期 | 2008.09.05 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;姚颖;宋伟红 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 季铵盐型阳离子表面活性剂在降低低介电材料抛光速率的化学机械抛光液中的应用。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||