一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法

摘要

本发明公开了一种金属电阻膜用Ni-Cr-Si溅射靶材的制造方法，该方法工艺流程为用真空感应熔炼工艺制备Ni-Cr-Si合金，即要通过配料、铸造模型加热、熔炼、精密铸造铸锭、铸锭冷却和机加工制成成品。本发明与现有技术相比具有工艺参数易于控制，微观组织分布均匀、细小，成品的密度高，无疏松气孔裂纹，成材率高等优点。

主权项

一种金属电阻膜用Ni‑Cr‑Si溅射靶材的制造方法，其特征在于包括以下步骤：1）配料：按比例称取原料电解Ni、金属Cr和金属Si；原料纯度在99.8％以上，合金成分wt%为：Ni：40～57%，Cr：40～57%，Si： 3～10%;2）侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型的加热：将真空感应炉内的加热炉加热至1000℃～1100℃，再将侧面浇注系统的精密铸造陶瓷模型放入其内加热至在800～1000℃并保温，待浇注时使用；3）熔炼、精密铸造铸锭：将称好的原料放入真空感应熔炼炉中，进行冶炼，精炼10~15分钟，当合金熔融液体温度达到液相线以上50～150℃时进行浇注；4）铸锭冷却：浇注完成后取出铸锭埋入氧化物陶瓷细砂中缓慢冷却，待冷却至室温时取出铸锭进行机加工；5）机加工：将冷却至室温的合金板坯按尺寸要求进行机加工成符合尺寸精度的溅射靶材。