发明名称 蒸镀方法、蒸镀膜和有机电致发光显示装置的制造方法
摘要 本发明的蒸镀方法包括:准备工序,准备固定蒸镀掩模(81)与蒸镀源(85)的相对位置的掩模单元;蒸镀工序,使上述掩模单元和被成膜基板(200)中的至少一个相对移动,使从蒸镀源(85)射出的蒸镀流蒸镀在蒸镀区域(210);和闸门位置调整工序,调整第二闸门(111)的位置,以遮蔽流向不需蒸镀区域(210)的蒸镀流。
申请公布号 CN103270815A 申请公布日期 2013.08.28
申请号 CN201180062668.3 申请日期 2011.12.20
申请人 夏普株式会社 发明人 园田通;川户伸一;井上智;桥本智志
分类号 H05B33/10(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;G09F9/30(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/04(2006.01)I;H05B33/06(2006.01)I;H05B33/26(2006.01)I 主分类号 H05B33/10(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种蒸镀方法,其是在被成膜基板进行规定图案的成膜的蒸镀方法,该蒸镀方法的特征在于,包括:准备掩模单元的准备工序,所述掩模单元包括具有开口部的蒸镀掩模和与所述蒸镀掩模相对配置的蒸镀源,所述蒸镀掩模与所述蒸镀源的相对位置固定;蒸镀工序,使所述掩模单元和所述被成膜基板中的至少一个相对移动,使从所述蒸镀源射出的蒸镀颗粒经所述开口部蒸镀在所述被成膜基板的蒸镀区域;和遮蔽工序,利用闸门部件遮蔽所述蒸镀颗粒的蒸镀流中流向所述被成膜基板的不需蒸镀区域的蒸镀流。
地址 日本大阪府