| 发明名称 | 基板载置台及其制造方法和基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供不会损伤基板并有效地防止产生蚀刻斑的载置台。载置台(5A)具有例如由铝或不锈钢(SUS)等的导电性材料形成的基材(7)和在基材(7)上设置的绝缘膜(8)。绝缘膜(8)的上表面是载置FPD用玻璃基板(S)的基板载置面(50)。基板载置面(50)包括具有表面粗糙度Ra为2μm以上6μm以下的粗糙表面的粗化部(51)和包围该粗化部(51)的周围的表面粗糙度Ra小于2μm的平滑部(53)。 | ||
| 申请公布号 | CN102157423B | 申请公布日期 | 2013.08.28 |
| 申请号 | CN201010576264.3 | 申请日期 | 2010.12.01 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 南雅人;奥山幸一 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种基板载置台，其特征在于，包括：基材；和覆盖该基材的绝缘膜，通过所述绝缘膜形成载置基板的基板载置面，并且在该基板载置面具有表面粗糙度Ra为2μm以上6μm以下的粗化部、和在所述粗化部的周围设置的表面粗糙度Ra小于2μm的平滑部。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||