发明名称 一种红外窄带带通滤光片
摘要 本实用新型公开了一种红外窄带带通滤光片,涉及滤光片技术领域。本实用新型包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53层膜,该53层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成。本实用新型在800-900nm的红外光波段,其红外光透过率达到98%,而在400-760nm的可见光波段以及950-1100nm的红外光波段,其整体透过率小于0.5%,能有效截除次峰,并且,本实用新型无须用到镉、铅等物质,环保而符合ROHS要求;本实用新型能广泛应用于生物医药、红外成像,红外探测,红外传感,红外测温,以及3D游戏红外成像等领域。
申请公布号 CN203164461U 申请公布日期 2013.08.28
申请号 CN201320076002.X 申请日期 2013.02.19
申请人 东莞五方光电科技有限公司 发明人 奂微微;黄兴桥
分类号 G02B5/20(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I 主分类号 G02B5/20(2006.01)I
代理机构 东莞市冠诚知识产权代理有限公司 44272 代理人 何恒韬
主权项 一种红外窄带带通滤光片,其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53层膜,该53层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成,该53层膜从内至外依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为100.5‑101nm;第2层,SiO2膜层,厚度为264.5‑265nm;第3层,TiO2膜层,厚度为91‑91.4nm;第4层,SiO2膜层,厚度为218‑218.4nm;第5层,TiO2膜层,厚度为107‑107.4nm;第6层,SiO2膜层,厚度为168.5‑169nm;第7层,TiO2膜层,厚度为109‑109.4nm;第8层,SiO2膜层,厚度为252‑252.4nm;第9层,TiO2膜层,厚度为99‑99.49nm;第10层,SiO2膜层,厚度为174‑174.45nm;第11层,TiO2膜层,厚度为89.6‑90nm;第12层,SiO2膜层,厚度为134‑134.4nm;第13层,TiO2膜层,厚度为163.5‑163.8nm;第14层,SiO2膜层,厚度为183.5‑184nm;第15层,TiO2膜层,厚度为134‑134.3nm;第16层,SiO2膜层,厚度为165‑165.49nm;第17层,TiO2膜层,厚度为97.5‑98nm;第18层,SiO2膜层,厚度为116‑116.49nm;第19层,TiO2膜层,厚度为72‑72.3nm;第20层,SiO2膜层,厚度为92‑92.4nm;第21层,TiO2膜层,厚度为69.5‑70nm;第22层,SiO2膜层,厚度为118‑118.49nm;第23层,TiO2膜层,厚度为82‑82.49nm;第24层,SiO2膜层,厚度为132‑132.49nm;第25层,TiO2膜层,厚度为79.5‑80nm;第26层,SiO2膜层,厚度为115.5‑116nm;第27层,TiO2膜层,厚度为78‑78.3nm;第28层,SiO2膜层,厚度为104.5‑105nm;第29层,TiO2膜层,厚度为63.5‑64nm;第30层,SiO2膜层,厚度为107.5‑108nm;第31层,TiO2膜层,厚度为68‑68.4nm;第32层,SiO2膜层,厚度为95.6‑96nm;第33层,TiO2膜层,厚度为44.6‑45nm;第34层,SiO2膜层,厚度为74.5‑75nm;第35层,TiO2膜层,厚度为64‑64.4nm;第36层,SiO2膜层,厚度为106‑106.3nm;第37层,TiO2膜层,厚度为56.6‑57nm;第38层,SiO2膜层,厚度为82.5‑83nm;第39层,TiO2膜层,厚度为53‑53.5nm;第40层,SiO2膜层,厚度为89‑89.4nm;第41层,TiO2膜层,厚度为40‑40.4nm;第42层,SiO2膜层,厚度为52.6‑53nm;第43层,TiO2膜层,厚度为52‑52.49nm;第44层,SiO2膜层,厚度为83.5‑84nm;第45层,TiO2膜层,厚度为43‑43.4nm;第46层,SiO2膜层,厚度为74.5‑75nm;第47层,TiO2膜层,厚度为50‑50.3nm;第48层,SiO2膜层,厚度为80‑80.49nm;第49层,TiO2膜层,厚度为49.5‑50nm;第50层,SiO2膜层,厚度为92‑92.4nm;第51层,TiO2膜层,厚度为109‑109.4nm;第52层,SiO2膜层,厚度为90.6‑91nm;第53层,TiO2膜层,厚度为29.6‑30nm。
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