发明名称 |
多有源区高效率光电子器件 |
摘要 |
一种多有源区高效率光电子器件,属于半导体光电子领域,其特征是在多有源区光电子器件中引入间接隧穿结构,通过间接隧穿结构将多个发光单元连接起来,增加了载流子的隧穿几率,成倍地提高了器件的量子效率。该器件结构可用于发光二极管、半导体激光器、多层结构带间探测器、超辐射发光二极管等。 |
申请公布号 |
CN103268912A |
申请公布日期 |
2013.08.28 |
申请号 |
CN201310144304.0 |
申请日期 |
2013.04.23 |
申请人 |
沈光地;马莉 |
发明人 |
沈光地;马莉 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/08(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 |
代理人 |
魏聿珠 |
主权项 |
多有源区高效率光电子器件,有从下往上依次纵向层叠的衬底(500),缓冲层(400),N+重掺接触层(300),发光区(200),P+重掺接触层(100),其特征在于:在发光区(200)中引入间接隧穿结构(220)。 |
地址 |
100124 北京市朝阳区平乐园100号 |