发明名称 一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法
摘要 本发明提供一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法,包括以下步骤:1)准备原材料以及摩尔配比;2)将混合均匀的粉料加入坩埚中并熔融;3)玻璃液降温后,将其注入模具中成型;4)将玻璃进行退火;即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。本发明解决了光栅、分光膜、分光棱镜在强激光下分光的损伤问题,提高激光器的负载能力,在近紫外波段高透,具很好的成玻性能,同时材料还具有高的激光损伤阈值,可作为基频光吸收材料用于强激光领域。
申请公布号 CN103265174A 申请公布日期 2013.08.28
申请号 CN201310210094.0 申请日期 2013.05.30
申请人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明人 侯超奇;彭波;陆敏;王鹏飞;高飞;李玮楠
分类号 C03C6/06(2006.01)I;C03B19/02(2006.01)I 主分类号 C03C6/06(2006.01)I
代理机构 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人 陈广民
主权项 一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:1】准备原材料,其中原材料各组分的配比如下:玻璃组分    摩尔百分数mol%AlF3:         31~35BaF2:         20~30MgF2           10~15SiO2           21~27Y2O3:         3~4.5FeO:          2~4各组分配比之和为100%,根据以上摩尔配比计算出原材料各组分的质量,称取原材料各组分,混合均匀成粉料;2】将混合均匀的粉料加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1050‑1150℃,并不断搅拌;3】待熔融得到完全澄清的高温玻璃液且降温至900‑950℃时,将高温玻璃液注入到已经预热好的模具中成型;4】将成型的玻璃模具立刻放入马弗炉中,以10℃/小时速率进行退火,直到温度降到50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品,即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。
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