| 发明名称 | 掩模系统、掩模方法、曝光系统和曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩模系统、掩模方法、曝光系统和曝光方法，该掩模系统包括：掩模板、支撑结构、用于设置基板的基台，支撑结构支撑掩模板，掩模板位于基台上方，掩模板与水平面呈设定角度θ，基台与所述掩模板平行，本发明在克服掩模板中部弯曲下垂的同时，不但省去了负压装置带来的成本，增加了经济效益，而且也避免了挤压掩模板两边缘而造成掩模板不必要的损坏。另外，将掩模板、基板、基台倾斜设置，可以减小曝光过程中微粒落到掩模板、基板、基台的机率。 | ||
| 申请公布号 | CN103268057A | 申请公布日期 | 2013.08.28 |
| 申请号 | CN201310156077.3 | 申请日期 | 2013.04.28 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 张继凯;吴洪江;黎敏;万冀豫;杨同华;查长军 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;陈源 |
| 主权项 | 一种掩模系统，包括：掩模板、支撑结构和用于设置基板的基台，所述支撑结构支撑所述掩模板，所述掩模板位于所述基台上方，其特征在于，所述掩模板与水平面呈设定角度θ，所述基台与所述掩模板平行。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||