| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine transportierbare Prozessbox zum Prozessieren einseitig beschichteter Substrate, umfassend: einen Boden zum vollflächig unterstützten Auflegen eines ersten Substrats, wobei der Boden so ausgebildet ist, dass Beschichtungen der Substrate durch an der Unterseite des Bodens zugeführte Strahlungsenergie wärmebehandelt werden können, einen Rahmen,einen Deckel, der auf den Rahmen aufgesetzt ist, ein zwischen Boden und Deckelangeordnetes Zwischenelement zum vollflächig unterstützten Auflegen eines zweiten Substrats, wobei der Deckel so ausgebildet ist, dass die Beschichtungen der Substrate durch an der Oberseite des Deckels zugeführte Strahlung wärmebehandelbar sind. Ferner erstreckt sie sich auf Anordnungen und Verfahren zum Prozessieren von Substraten, bei denen eine Prozessbox oder ein Prozessträger montiert und mit Substraten beladenwerden, in eine Prozesskammer transportiert werden, und Strahlungsenergie von oberhalb des Deckel und/oder unterhalb des Bodens eingestrahlt wird. Bei einem vormontierten Prozessträger wird der Deckel oder ein mit dem Rahmen verbundener Deckel zur Ausbildung der Prozessbox auf den Prozessträger zugestellt.</p> |
