发明名称 将光阳极的光敏染料含浸于一导电基材的方法
摘要 本发明提出一种压力摆荡含浸法来制备染料敏化太阳能电池(dye-sensitized solar cell,DSSC)的光阳极。本发明的方法包括将一导电基材的金属氧化物层浸入于一位于高压釜内的光敏染料的溶液内;将一惰性气体导入该高压釜内并且维持在一第一压力一段时间,其中该第一压力低于该惰性气体的临界压力,且该溶液为该惰性气体所膨胀;及以该惰性气体进一步加压该高压釜并且维持在一第二压力一段时间,其中该第二压力高于第一压力,且使该惰性气体转变成近临界或超临界流体而进一步溶入于该溶液,于是光敏染料因为反溶剂效应而进一步沉积于该金属氧化物层内。
申请公布号 TWI406424 申请公布日期 2013.08.21
申请号 TW099113121 申请日期 2010.04.26
申请人 国立清华大学 新竹市光复路2段101号 发明人 谈骏嵩;林义翔;杨杰铭
分类号 H01L31/0224 主分类号 H01L31/0224
代理机构 代理人 陈展俊 台北市大安区和平东路2段203号4楼之2
主权项
地址 新竹市光复路2段101号