曝光设备和半导体装置制造方法

摘要

本发明提供一曝光设备，包括：一照明光学系统，其被组构用于以来自光源之光束照明一光罩；及一投射光学系统，其被组构用于将该光罩之图案投射至一基板上，该照明光学系统包括一被组构用于调整该光束之量的光量调整单元、一被组构用于调整该光束之偏振状态的偏振调整单元、及一被组构用于将该入射光束分成二光束之光束分离器，其中该光量调整单元、该偏振调整单元、及该光束分离器系按照离该光源侧面之顺序设定。