| 摘要 |
本发明之阻剂除去装置(1)系能够在90℃以下的低温除去基板上的阻剂。换言之，阻剂除去装置(1)系具备以能够加热的方式收纳被用来阻剂(17)除去之基板(16)的同时，并且在比大气压更低压下，使臭氧气体，以及不饱和烃气体或是不饱和烃的氟置换体气体被供给之腔室(2)。腔室(2)系以使基板(16)的温度达到90℃以下的方式控制内压。就前述臭氧气体而言，可以举例如根据蒸气压差将含有臭氧的气体仅液化分离臭氧后再气化所得到之超高浓度臭氧气体。在前述处理的基板(16)中系以供给用以洗净的超纯水为佳。腔室(12)系具备支撑基板(16)之载置台(15)。载置台(15)系利用发射红外线的光源(4)而被加热。 |
