发明名称 |
双面微透镜阵列、雷射光束整型均化装置及雷射光源系统 |
摘要 |
一种双面微透镜阵列,应用于雷射光源系统之雷射光束整型均化装置,可将入射之雷射光束的能量分布整型为均匀平顶分布。所述之双面微透镜阵列包括一基板、复数个第一微透镜与复数个第二微透镜。第一微透镜与第二微透镜为具相同形状之凸透镜,并符合绕射光学元件等级,分别设置于基板相对之第一面与第二面上,紧密排列成阵列型态。其中,每一第一微透镜与每一第二微透镜系呈错位状态。 |
申请公布号 |
TWI406008 |
申请公布日期 |
2013.08.21 |
申请号 |
TW098121469 |
申请日期 |
2009.06.25 |
申请人 |
国立清华大学 新竹市光复路2段101号 |
发明人 |
陈政寰;陈柏洲;陈建铨;姚柏宏 |
分类号 |
G02B26/12;G02B27/09;G03B21/14 |
主分类号 |
G02B26/12 |
代理机构 |
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代理人 |
王清煌 台北市信义区基隆路1段420号12楼之4 |
主权项 |
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地址 |
新竹市光复路2段101号 |