发明名称 双面微透镜阵列、雷射光束整型均化装置及雷射光源系统
摘要 一种双面微透镜阵列,应用于雷射光源系统之雷射光束整型均化装置,可将入射之雷射光束的能量分布整型为均匀平顶分布。所述之双面微透镜阵列包括一基板、复数个第一微透镜与复数个第二微透镜。第一微透镜与第二微透镜为具相同形状之凸透镜,并符合绕射光学元件等级,分别设置于基板相对之第一面与第二面上,紧密排列成阵列型态。其中,每一第一微透镜与每一第二微透镜系呈错位状态。
申请公布号 TWI406008 申请公布日期 2013.08.21
申请号 TW098121469 申请日期 2009.06.25
申请人 国立清华大学 新竹市光复路2段101号 发明人 陈政寰;陈柏洲;陈建铨;姚柏宏
分类号 G02B26/12;G02B27/09;G03B21/14 主分类号 G02B26/12
代理机构 代理人 王清煌 台北市信义区基隆路1段420号12楼之4
主权项
地址 新竹市光复路2段101号