| 摘要 |
本发明系有关一种如化式M(NR1R2)x所示之有机金属化合物，其中M是金属或准金属，R1相同或不同地为烃基或含杂原子的基团，R2相同或不同地为烃基或含杂原子的基团；R1和R2可组合形成经取代或未经取代之饱和或未饱和的环状基团；其中一个(NR1R2)基之R1或R2可与另一个(NR1R2)基之R1或R2组合形成经取代或未经取代之饱和或未饱和的环状基团；x等于M的氧化态；及其中该有机金属化合物具有(i)足以维持单体结构及使阴离子配位基的配位数等于M的氧化态之空间位阻，及(ii)足以产生适合于气相沉积的挥发性之分子量；一种制备该有机金属化合物之方法，及一种由有机金属前驱化合物制备薄膜或涂层之方法。 |
