膜厚量测机台中颗粒的监控方法及控片

摘要

本发明涉及膜厚量测机台中颗粒的监控方法及控片，其中，控片包括第一控片和第二控片，第一控片包括一硅衬底和位于其上的的薄膜；第二控片包括一硅衬底和位于其上的大于的薄膜。通过采用上述的第一控片和第二控片分别对膜厚量测机中的单波长椭偏仪功能模块和宽带光谱功能模块的工艺制程中的环境颗粒状况进行监控，以全面监控膜厚量测机工艺制程的环境颗粒状况。使用本发明的控片和监控方法所进行的对膜厚量测机功能模块的监控，能够较为客观的反应膜厚量测机在该两个功能模块下的环境颗粒状况，并且对该两个功能模块进行监控能够反应整个膜厚量测机的工艺制程环境颗粒状况。

主权项

一种监控膜厚量测机台颗粒的控片，其特征在于，所述控片包括一硅衬底，所述硅衬底的上表面覆盖有一层薄膜；其中，所述薄膜的材质为氧化物或氮化物。