发明名称 |
双栅极横向MOSFET |
摘要 |
双栅极横向MOSFET包括:衬底上方的漂移区、在漂移区中形成的隔离区和在漂移区中形成的沟道区。双栅极横向MOSFET包括:在漂移区中形成的漏极区和在沟道区中形成的源极区,其中,源极区和漏极区形成在隔离区的相对两侧。双栅极横向MOSFET进一步包括邻近源极区形成的第一栅极和第二栅极,其中,第一栅极和第二栅极堆叠在一起并且通过介电层隔离。 |
申请公布号 |
CN103258846A |
申请公布日期 |
2013.08.21 |
申请号 |
CN201210198959.1 |
申请日期 |
2012.06.14 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
陈柏羽 |
分类号 |
H01L29/423(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/423(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 |
代理人 |
章社杲;孙征 |
主权项 |
一种半导体器件,包括:衬底,具有第一导电性;第一区域,具有第二导电性并形成在所述衬底上方;主体区,具有所述第一导电性并形成在所述第一区域中;隔离区,形成在所述第一区域中;第二区域,具有所述第二导电性并形成在所述第一区域中;第三区域,具有所述第二导电性并形成在所述第一区域中,其中,所述第三区域和所述第二区域形成在所述隔离区的相对两侧;第一介电层,形成在所述第一区域上方;第一栅极,形成在所述第一介电层上方;第二介电层,形成在所述第一栅极上方;以及第二栅极,形成在所述第二介电层上方。 |
地址 |
中国台湾新竹 |