发明名称 石英晶片的清洗方法及清洗装置
摘要 本发明公开了一种提高清洗效率的石英晶片的清洗方法,其特征是由PLC控制装置控制,石英晶片无需取出,在同一清洗桶内用清洗液完成初洗、至少二次的清洗,所述清洗装置包括它包括设有溢水口(8)的清洗桶(3),清洗桶(3)内设有用于放置石英晶片的网笼(4),清洗桶(3)底部安装有超声波振子(9),其特征是清洗桶(3)底部设有孔,所述的孔与由电磁阀控制的进水管(5)和出水管(6)连通,所述的电磁阀、超声波振子(9)由PLC控制装置控制,实现对石英晶片的初洗、至少二次的清洗,本发明方法可行,装置结构简单,提高了装置的自动化控制程度和清洗效果,烘干时间只需20分钟,大大减少了清洗时间,提高了生产效率,降低了工人劳动强度。
申请公布号 CN102218413B 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201110128437.X 申请日期 2011.05.18
申请人 益阳晶益电子有限公司 发明人 李群胜;汤剑波
分类号 B08B3/12(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I 主分类号 B08B3/12(2006.01)I
代理机构 益阳市银城专利事务所 43107 代理人 舒斌;夏宗福
主权项 一种石英晶片的清洗装置,它包括设有溢水口(8)的清洗桶(3),清洗桶(3)内设有用于放置石英晶片的网笼(4),清洗桶(3)底部安装有超声波振子(9),其特征是清洗桶(3)底部设有孔,所述的孔与由电磁阀控制的进水管(5)和出水管(6)连通,所述的电磁阀、超声波振子(9)由PLC控制装置控制,石英晶片无需取出,在同一清洗桶(3)内实现对石英晶片的初洗、至少二次的清洗;清洗桶(3)内设有用于安装网笼(4)的网笼架(10),网笼架(10)安装在离心机(7)的主轴(12)上,所述的离心机(7)由PLC控制装置控制,实现对石英晶片的脱水甩干;清洗时,每次清洗后都由PLC控制装置控制对石英晶片进行脱水甩干,脱水甩干的转速为800转/分钟~1000转/分钟,清洗液的温度为40℃~60℃,最后一次清洗时,清洗液的温度为90℃~95℃;所述的网笼架(10)通过支架(11)安装在离心机(7)的主轴(12)上,网笼架(10)通过销轴(13)与支架(11)连接;清洗桶(3)上设有桶盖(1),桶盖(1)上设有烘干器,所述的烘干器由PLC控制装置控制,在清洗桶内实现对石英晶片的烘干。
地址 413001 湖南省益阳市资阳区长春工业园五福路