发明名称 具有两性聚羧酸根聚合物的清洁组合物
摘要 本发明公开了包含两性聚合物的清洁组合物和衣物洗涤剂。所述两性聚合物可为具有聚羧酸根主链和聚烷氧基化物侧链的梳型聚合物。具体地,所述两性聚合物包含:衍生自包含阳离子基团的单体的阳离子基团结构单元;和衍生自包含羧基的单体的羧基结构单元。基于两性聚合物中衍生自所有单体的所有结构单元的100质量%计,阳离子基团结构单元可以1质量%至99质量%的含量存在。基于两性聚合物中衍生自所有单体的所有结构单元的100质量%计,羧基结构单元可以1质量%至99质量%的含量存在。所述清洁组合物具有高度的抗污垢再沉积能力以及与表面活性剂的溶解度。
申请公布号 CN103261390A 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201080070632.5 申请日期 2010.12.17
申请人 宝洁公司 发明人 K·穆克赫吉;K·N·普莱斯;米田淳郎;道尭大祐
分类号 C11D3/37(2006.01)I;C08F216/12(2006.01)I;C08F220/06(2006.01)I 主分类号 C11D3/37(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 江磊
主权项 1.一种包含两性聚合物的清洁组合物,所述两性聚合物由共同限定总质量的多个结构单元形成,使得:基于所述总质量计,1质量%至99质量%的所述多个结构单元为具有式(IB)或(IIB)的阳离子基团结构单元:<img file="FDA00003330768400011.GIF" wi="1323" he="749" />其中:R<sup>0</sup>为-H或-CH<sub>3</sub>;R<sup>1</sup>为-CH<sub>2</sub>-、-CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>-、或直接键;R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>各自独立地选自C<sub>1-20</sub>有机基团;R<sup>5</sup>和R<sub>6</sub>各自独立地选自-H和C<sub>1-20</sub>有机基团;每个Y<sup>1</sup>独立地选自C<sub>2-20</sub>亚烷基;n为1至300并且代表氧化烯基团(-Y<sup>1</sup>-O-)的平均加成摩尔数;并且X<sup>-</sup>为抗衡阴离子;并且基于所述多个结构单元的总质量计,1质量%至99质量%的所述多个结构单元为羧基结构单元,所述羧基结构单元各自衍生自包含羧基的单体。
地址 美国俄亥俄州
您可能感兴趣的专利