发明名称 石膏模型室反向下水式灌模装置
摘要 本实用新型涉及一种石膏模型室反向下水式灌模装置,属于教学器材领域。一、二、三级水池置于灌模室,对立两排,在一、二、三级水池的侧边分别设置伸缩式操作台,在对立两排水池中间设置风干平台,在风干平台的两侧设置水源孔与水龙头连接;在一、二级水池的一端分别设置过滤下水口Ⅰ、Ⅱ,在二、三级水池的底面分别设置过滤下水口;所述一级水池的下水口端高于另一端1~3cm。优点在于:结构新颖,操作简单,使用方便。水龙头数量足够多,保证更多学生方便、快捷的制作有质量的模具。一、二、三级水池之间排水孔的沉降高度为5厘米,保证流畅和方便及时清理。安装在200多平方米的灌模室内,容纳50余学生同时灌注。
申请公布号 CN203149994U 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201320172970.0 申请日期 2013.04.09
申请人 蔡毅 发明人 蔡毅;宋宇哲;陈金锐;李红;张振波;石璐
分类号 G09B25/02(2006.01)I 主分类号 G09B25/02(2006.01)I
代理机构 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 代理人 王怡敏
主权项 一种石膏模型室反向下水式灌模装置,其特征在于:一、二、三级水池(1、2、3)置于灌模室中央,对立两排,在一、二、三级水池(1、2、3)的侧边分别设置伸缩式操作台(4),在对立两排水池中间设置风干平台(5),在风干平台(5)的两侧设置水源孔(6)与水龙头连接;在一、二级水池(1、2)的一端分别设置过滤下水口Ⅰ、Ⅱ(7、8),在二、三级水池(2、3)的底面分别设置过滤下水口;所述一级水池的下水口端高于另一端1~3cm。
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