发明名称 |
包含聚合物和金属原子或离子的组合物及其应用 |
摘要 |
本发明涉及包含聚合物和金属原子或离子的组合物及其应用,具体地,涉及包含组分A和组分D的组合物,所述组分A是可通过具有SiH官能团和乙烯基官能团的硅氧烷与其它不饱和化合物的氢化硅烷化反应得到的聚合物,所述组分D是金属原子或离子且不是硅,还涉及制备这些组合物的方法和所述组合物用于制备消泡剂或作为液体消泡剂的用途、以及用于抑制或减少发泡液的泡沫形成、以及用于使泡沫破裂的用途。 |
申请公布号 |
CN103254439A |
申请公布日期 |
2013.08.21 |
申请号 |
CN201310053276.1 |
申请日期 |
2013.02.19 |
申请人 |
赢创高施米特有限公司 |
发明人 |
M·菲德尔;M·费伦茨;W·克诺特;I·艾斯曼;S·维歇斯 |
分类号 |
C08G77/46(2006.01)I;C08G77/20(2006.01)I;C08G77/12(2006.01)I;B01D19/04(2006.01)I |
主分类号 |
C08G77/46(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
于辉 |
主权项 |
组合物,特征在于,其包含组分A和D,其中A包含可通过式(I)化合物与式(I)化合物和/或与具有碳‑碳多重键且不符合式(I)的其它化合物C的氢化硅烷化反应得到的聚合物Ma Mvb MHc Dd DHe Dvf Tg Qh 式(I)M=[R13SiO1/2]MV=[R3R12SiO1/2]MH=[R12SiHO1/2]D=[R12SiO2/2]DH=[R1SiHO2/2]DV=[R3R1SiO2/2]T=[R1SiO3/2]Q=[SiO4/2]a=0‑42;b=0‑42;c=0‑42;d=5‑600;e=0‑50;f=0‑50;g=0‑20;h=0‑20;条件是满足以下条件:a+b+c大于或等于2,b+f大于0,c+e大于0,并且0.24*(a+b+c+d+e+f+g)大于(c+e);R1彼此独立地是相同或不同的具有1至30个碳原子的烷基,或相同或不同的具有6至30个碳原子的芳基,或‑OH,或‑OR2;R2彼此独立地是相同或不同的具有1至12个碳原子的烷基,或相同或不同的具有6至12个碳原子的芳基;R3彼此独立地是相同或不同的具有末端碳‑碳双键或末端或内部碳‑碳三 键的有机基团;和D是铂族元素的金属原子或离子。 |
地址 |
德国埃森 |