发明名称 半导体基板、半导体装置、以及半导体基板的制造方法
摘要 GaN系半导体在晶面方位为(111)的硅基板上外延生长。GaN的晶格常数与硅(111)面的晶格常数之差大、约为17%,所以被生长的GaN中导入超过1010cm-2的位错。由于位错、使用GaN的晶体管的漏泄电流增大。另外,晶体管的迁移率降低。本发明公开了一种半导体基板,具有硅基板与在硅基板的(150)面上外延生长的氮化物半导体层。
申请公布号 CN103262214A 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201280004156.6 申请日期 2012.01.23
申请人 先进动力设备技术研究协会 发明人 岩见正之;古川拓也
分类号 H01L21/20(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/338(2006.01)I;H01L29/47(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L29/812(2006.01)I;H01L29/872(2006.01)I 主分类号 H01L21/20(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种半导体基板,其包括:硅基板、以及在所述硅基板的(150)面上外延生长的氮化物半导体层。
地址 日本神奈川县