发明名称 |
半导体基板、半导体装置、以及半导体基板的制造方法 |
摘要 |
GaN系半导体在晶面方位为(111)的硅基板上外延生长。GaN的晶格常数与硅(111)面的晶格常数之差大、约为17%,所以被生长的GaN中导入超过1010cm-2的位错。由于位错、使用GaN的晶体管的漏泄电流增大。另外,晶体管的迁移率降低。本发明公开了一种半导体基板,具有硅基板与在硅基板的(150)面上外延生长的氮化物半导体层。 |
申请公布号 |
CN103262214A |
申请公布日期 |
2013.08.21 |
申请号 |
CN201280004156.6 |
申请日期 |
2012.01.23 |
申请人 |
先进动力设备技术研究协会 |
发明人 |
岩见正之;古川拓也 |
分类号 |
H01L21/20(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/338(2006.01)I;H01L29/47(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L29/812(2006.01)I;H01L29/872(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种半导体基板,其包括:硅基板、以及在所述硅基板的(150)面上外延生长的氮化物半导体层。 |
地址 |
日本神奈川县 |