CIS器件中光通道的形成方法

摘要

本发明公开了一种CIS器件中光通道的形成方法。该方法包括：在衬底中嵌设感光元件；在嵌设了所述感光元件的所述衬底上通过叠层的方式形成多层NDC层，并在每层NDC层中形成一金属层，并在除最下层金属层之外其他每层金属层之下的介质层；一次性刻蚀掉所述感光元件正上方包括的多层NDC层以及金属层的叠层，以形成光通道，使入射光被所述感光元件感应。本发明通过一次性刻蚀掉所述感光元件正上方包括的多层NDC层以及金属层的叠层，以形成光通道，使入射光被所述感光元件感应，避免了现有技术中逐层刻蚀NDC层和金属层需要多部刻蚀步骤导致的工艺过程复杂、生产效率低、CIS器件的成本高等缺陷。

主权项

一种CIS器件中光通道的形成方法，其特征在于，包括：在衬底中嵌设感光元件；在嵌设了所述感光元件的所述衬底上通过叠层的方式形成多层NDC层，并在每层NDC层中形成一金属层，并在除最下层金属层之外其他每层金属层之下的介质层；一次性刻蚀掉所述感光元件正上方包括的多层NDC层以及金属层的叠层，以形成光通道，使入射光被所述感光元件感应。