发明名称 轧制铜箔
摘要 本发明提供一种轧制铜箔,在再结晶退火工序后具有优良弯曲特性。与主表面平行的多个晶面的衍射峰强度为:I{022}/(I{022}+I{002}+I{113}+I{111}+I{133})≥0.50,(I{002}+I{113})/(I{111}+I{133})≤2.0,10≤I{022}/I{002}≤45,I{022}/I{113}≥5.0,I{022}/I{111}≤120,I{022}/I{133}≤25,I{002}/I{113}≤5.0,I{111}/I{133}≤3.0,I{113}/I{111}≤5.0,I{002}/I{111}≤8.0,I{002}/I{133}≤2.0,且I{113}/I{133}≤2.0。
申请公布号 CN103255308A 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201210184249.3 申请日期 2012.06.05
申请人 日立电线株式会社 发明人 室贺岳海;关聪至
分类号 C22C9/00(2006.01)I;B21B1/40(2006.01)I 主分类号 C22C9/00(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶;金鲜英
主权项 一种轧制铜箔,其特征在于,其为具备主表面、且具有与所述主表面平行的多个晶面的最终冷轧工序后、再结晶退火工序前的轧制铜箔,所述多个晶面包括{022}面、{002}面、{113}面、{111}面和{133}面,将通过对所述主表面利用2θ/θ法进行X射线衍射测定而得到的所述各晶面的衍射峰强度分别设为I{022}、I{002}、I{113}、I{111}和I{133}时,I{022}/(I{022}+I{002}+I{113}+I{111}+I{133})≥0.50,(I{002}+I{113})/(I{111}+I{133})≤2.0,10≤I{022}/I{002}≤45,I{022}/I{113}≥5.0,I{022}/I{111}≤120,I{022}/I{133}≤25,I{002}/I{113}≤5.0,I{111}/I{133}≤3.0,I{113}/I{111}≤5.0,I{002}/I{111}≤8.0、I{002}/I{133}≤2.0,且I{113}/I{133}≤2.0。
地址 日本东京都