| 发明名称 | Fe-Pt型强磁性材料溅射靶及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种强磁性材料溅射靶，其为Pt为5～50摩尔%、SiO2为5～15摩尔%、Sn为0.05～0.60摩尔%、其余为Fe的组成的溅射靶，其特征在于，在分散在金属基质(A)中的SiO2的粒子(B)中含有所述Sn。本发明得到能够抑制溅射时导致粉粒产生的氧化物的异常放电的非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN103261471A | 申请公布日期 | 2013.08.21 |
| 申请号 | CN201180061198.9 | 申请日期 | 2011.12.19 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 池田祐希;高见英生 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;B22F3/14(2006.01)I;C22C1/05(2006.01)I;C22C5/04(2006.01)I;C22C32/00(2006.01)I;C22C33/02(2006.01)I;C22C38/00(2006.01)I;G11B5/64(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种强磁性材料溅射靶，其为Pt为5～50摩尔%、SiO2为5～15摩尔%、Sn为0.05～0.60摩尔%、其余为Fe的组成的溅射靶，其特征在于，在分散在金属基质(A)中的SiO2的粒子(B)中含有所述Sn。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||