发明名称 |
一种辐射粒子探测器及应用该探测器的辐射粒子探测系统 |
摘要 |
本实用新型公开了属于粒子探测器技术领域的一种辐射粒子探测器及应用该探测器的辐射粒子探测系统。所述的辐射粒子探测器,在x-y绝缘条上依次层叠4层涂覆硼的GEM膜,在最上面那层涂覆硼的GEM膜上再层叠涂覆硼的铝膜,其中GEM膜为辐射粒子探测膜简称。本实用新型还提供包括上述辐射粒子探测器的辐射粒子探测系统。本实用新型提供的探测器具有多路读出和发挥快的响应,有高气体增益并随意可调,易于制造维护,相对价廉,实用性强的优点。 |
申请公布号 |
CN203149125U |
申请公布日期 |
2013.08.21 |
申请号 |
CN201220558477.8 |
申请日期 |
2012.10.29 |
申请人 |
北京新立机械有限责任公司 |
发明人 |
董洋;张强;杨亚聃;王滨;陈国民;丁飞 |
分类号 |
G01T1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01T1/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市京大律师事务所 11321 |
代理人 |
李光松 |
主权项 |
一种辐射粒子探测器,其特征在于:在绝缘条上依次层叠4层涂覆硼的GEM膜,在最上面那层涂覆硼的GEM膜上再层叠涂覆硼的铝膜,其中GEM膜为辐射粒子探测膜简称。 |
地址 |
100039 北京市海淀区北京132信箱103分箱 |