发明名称 研磨液组合物
摘要 本发明提供一种能够抑制端面下垂的研磨液组合物,其含有共聚物以及研磨材料,所述共聚物具有下述式(I)表示的结构单元和下述式(II)-(III)表示的一种以上的结构单元。作为用于形成下述式(I)表示的结构单元的单体,可列举出甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯等,作为用于形成下述式(II)表示的结构单元的单体,可列举出甲基丙烯酸硬脂酸酯等,作为用于形成下述式(III)表示的结构单元的单体,可列举出甲基丙烯酸聚丙二醇酯等。<img file="DDA0000062294050000011.GIF" wi="901" he="995" />
申请公布号 CN102153990B 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201110130439.2 申请日期 2007.09.07
申请人 花王株式会社 发明人 铃木真彦;本间祐一;山胁有希子
分类号 C09K3/14(2006.01)I;C08F290/06(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I 主分类号 C09K3/14(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 陈建全
主权项 1.一种研磨液组合物,其含有共聚物、水以及研磨材料,所述共聚物具有下述式(I)表示的结构单元和选自下述式(II)和(III)表示的结构单元中的至少一种结构单元,<img file="FDA00002895413900011.GIF" wi="908" he="1000" />所述式(I)中,R<sup>1</sup>是氢原子或者甲基,R<sup>2</sup>是碳原子数为1-4的烷基,AO是碳原子数为1-8的氧化烯基,p是0或1,n是AO的总平均加成摩尔数,且是6-300的数,(AO)<sub>n</sub>中的氧化乙烯基所占的比例是80摩尔%以上,所述式(II)中,R<sup>3</sup>是氢原子或者甲基,X是氧原子或者NH基,R<sup>4</sup>是碳原子数为4-30的烷基或者碳原子数为6-30的芳基,所述式(III)中,R<sup>5</sup>是氢原子或者甲基,R<sup>6</sup>是氢原子或者碳原子数为1-3的烷基,AO是碳原子数为2-4的氧化烯基,m是AO的总平均加成摩尔数且是3-150的数,(AO)<sub>m</sub>中的氧化丙烯基和氧化丁烯基所占的比例是80摩尔%以上,其中,所述研磨液组合物中的所述水的含量为75重量%以上,所述研磨液组合物中的所述共聚物的含量为0.001-3重量%。
地址 日本东京