用于减少由基片处理弯液面留下的进入和/或离开的痕迹的载具

摘要

本发明描述一种载具，用于在由上部和下部临近头形成的弯液面处理期间支撑基片。该载具包括具有尺寸设为容纳基片的开口的框架，和多个用于在该开口内支撑该基片的支撑销。该开口稍大于该基片从而在该基片和该开口之间存在间隙。提供减少进入和/或离开痕迹的大小和频次的构造，该构造帮助和促进来自该弯液面的液体排出该间隙。还提供减少进入和/或离开痕迹的大小和频次的方法。

主权项

一种载具，用于在使该载具通过由上部和下部临近头形成的弯液面而处理基片时支撑基片，该载具包括：框架，其具有尺寸设为容纳基片的开口；多个用于在该开口内支撑该基片的支撑销，该开口稍大于该基片从而在该基片和该开口之间存在间隙；以及形成在所述框架内的最接近所述基片前缘或后缘中的至少一个的挖去部分，该挖去部分用于减少进入和离开痕迹至少之一的大小和频次以帮助和促进来自该弯液面的液体排出该间隙。