发明名称 用于选择性透射电磁辐射的滤线栅
摘要 本发明关注于一种选择性透射电磁辐射、尤其是X射线辐射的滤线栅,其具有至少一个借助于选择性激光烧结由基本为辐射不能穿透的粉末材料建造的结构元件(2),并且它还公开了一种对选择性透射电磁辐射的滤线栅进行制造的方法,其包括借助于选择性激光烧结由基本为辐射不能穿透的粉末材料生成至少一种结构元件(2)的步骤。在已经通过选择性激光烧结建造出结构元件之后,所述滤线栅可以是通过模塑或研磨技术无法实现的高度复杂的3D结构。在所述滤线栅的一个实施例中,烧结结构配合通过金属薄板中的孔。
申请公布号 CN101484949B 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN200780025630.2 申请日期 2007.07.04
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 R·多沙伊德;G·福格特米尔
分类号 G21K1/02(2006.01)I;B22F3/10(2006.01)I 主分类号 G21K1/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 王英
主权项 一种选择性透射电磁辐射的滤线栅,包括金属薄板(3)以及至少一个借助于选择性激光烧结由基本为辐射不能穿透的粉末材料建造的结构元件(2),其中,所述滤线栅的结构元件形成在所述金属薄板(3)上,结构元件(2)至少在两个所述金属薄板(3)之间以及至少一个所述金属薄板(3)的两边上延伸,并且其中,所述金属薄板(3)具有使所述结构元件(2)从中延伸穿过的孔(5)。
地址 荷兰艾恩德霍芬