| 发明名称 | 图案化方法 | ||
| 摘要 | 提供一种能够大幅减轻工艺成本和环境负荷的图案化方法。本发明的图案化方法包括：成膜工序，在基板（1）上形成功能膜（2）；以及蚀刻工序，通过从具有在功能膜（2）上方设置的任意的开口部（4A）的掩膜（4）的上方照射真空紫外线（12），从而对位于开口部（4A）的下方的功能膜（2）进行干蚀刻。干蚀刻工序能够在含氧气的环境中进行。例如，能够将干燥空气用于工艺气体。此外，也可以对置于大气中的基板（1）提供作为惰性气体的N2。 | ||
| 申请公布号 | CN103262654A | 申请公布日期 | 2013.08.21 |
| 申请号 | CN201180060667.5 | 申请日期 | 2011.12.16 |
| 申请人 | 龙云株式会社 | 发明人 | 中村胜;川口敬史;五十川良则;长畑千圣 |
| 分类号 | H05B33/10(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I | 主分类号 | H05B33/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 戚传江;谢丽娜 |
| 主权项 | 一种图案化方法，包括：成膜工序，在基板上形成功能膜；以及蚀刻工序，通过从在所述功能膜上设置的具有任意的开口部的掩膜的上方照射真空紫外线，从而对位于所述开口部的下方的所述功能膜进行干蚀刻。。 | ||
| 地址 | 日本冈山县井原市 | ||