二维样本处理器

摘要

本发明涉及二维样本处理器。样本定位在诊断分析器内的方法包括在传送器上提供两个或多个样本载体；为每个样本载体在沿传送器的预先确定的位置提供固定对准元件；提供定位样本载体和传送器间的挠曲设备；样本载体前进超过固定对准元件；传送器反向以将至少一个样本载体返回以与相应对准元件接触；继续传送器反向至所有样本载体与各对准元件接触；因此当传送器反向时与各对准元件接触的样本载体挠曲元件变形以允许所有样本载体与各对准元件接触，因此提供样本载体已知位置。挠曲设备包括形成倒置U形的第一腿和第二腿；从倒置U形顶延伸的第三腿和在U端部的方向从U中心向下延伸的第四腿。此外，本发明还涉及诊断分析器的样本处理系统。

主权项

一种用于在诊断分析器内定位样本的方法，包括：在传送器上提供两个或更多样本载体；为每个样本载体在沿传送器的预先确定的位置处提供固定的对准元件；提供定位在样本载体和传送器之间的挠曲设备，所述挠曲设备包括：形成了倒置U形的第一腿和第二腿；从倒置U形顶部向上延伸的第三腿；和从倒置U形顶部沿U形中心且在向着U形端部的方向上向下延伸的第四腿；使样本载体前进超过固定的对准元件；将传送器方向反向以将样本载体的至少一个返回以与其相应的对准元件接触；继续将传送器反向直至所有样本载体与其各自的对准元件接触；因此当传送器反向时，与各自的对准元件接触的样本载体的挠曲设备将变形，以允许所有样本载体接触其各自的对准元件，因此提供了样本载体的已知位置。