发明名称 |
制造半导体器件的方法 |
摘要 |
本发明涉及组合物,该组合物在半导体器件的制造过程中用于产生图案化的或结构化的SiO2层或产生SiO2线,并且该组合物适用于在喷墨操作中应用。本发明还涉及利用这些新的组合物制造半导体器件的改进方法。 |
申请公布号 |
CN101981227B |
申请公布日期 |
2013.08.21 |
申请号 |
CN200980110519.2 |
申请日期 |
2009.03.02 |
申请人 |
默克专利有限公司 |
发明人 |
维尔纳·斯托克姆;英戈·克勒;阿尔扬·梅耶;保尔·克雷格·布鲁克斯;凯蒂·帕特森;马克·詹姆斯 |
分类号 |
C23C18/12(2006.01)I |
主分类号 |
C23C18/12(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
张珂珂;郭国清 |
主权项 |
1.制造半导体器件的方法,其特征在于通过使用可喷墨印刷的SiO<sub>2</sub>前体组合物,在基材表面上产生SiO<sub>2</sub>层或SiO<sub>2</sub>线,其中所述SiO<sub>2</sub>前体组合物包括(A)通式(I)的SiO<sub>2</sub>前体或前体混合物<img file="FDA00002998651000011.GIF" wi="753" he="318" />(I)其中彼此独立地,R为A、AOA、Ar、AAr、AArA、AOAr、AOArA、AArOA,其中A是直链或支链的C<sub>1</sub>–C<sub>18</sub>烷基,或者取代或未取代的环状C<sub>3</sub>-C<sub>8</sub>烷基;Ar是取代或未取代的具有6–18个碳原子的芳基,和,n=1–100和其中R可以形成与Si或相邻的基团R结合的另外的直键。 |
地址 |
德国达姆施塔特 |