发明名称 光刻装置和器件制造方法
摘要 一种光刻装置,包括配置成调节辐射光束的照明系统,将构图部件支撑在投影平面中的构图部件支撑件,该构图部件对辐射光束构图,保持基底的基底台;将图形化光束投影到基底上的投影系统,和交换装置,该交换装置用于在投影过程中与保持可交换对象的可交换对象支撑件交换可交换对象。该交换装置包括装载单元和卸载单元,每一装载单元和卸载单元都具有保持可交换对象的保持装置。该保持装置大体上彼此相邻地定位并配置成使可交换对象保持在与一平面大体上平行的平面中,其中可交换对象在投影过程中保持在可交换对象支撑件中。该可交换对象支撑件与每一保持装置交换可交换对象。
申请公布号 CN1987662B 申请公布日期 2013.08.14
申请号 CN200610170159.3 申请日期 2006.12.22
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 E·R·卢普斯特拉;B·A·J·卢蒂克休斯
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种光刻装置,包括:配置成调节辐射光束的照明系统;配置成将构图部件支撑在投影平面中的构图部件支撑件,该构图部件配置成在该辐射光束的横截面中赋予图案,从而形成图形化的辐射光束;配置成保持基底的基底台;配置成将该图形化辐射光束投影到该基底的靶部的投影系统;和交换装置,其配置成与可交换对象支撑件交换可交换对象,该可交换对象支撑件配置成在对该图形化辐射光束进行投影的过程中保持所述可交换对象,所述交换装置包括装载单元和卸载单元,所述装载单元和所述卸载单元每一个都具有用于保持可交换对象的保持装置,所述装载单元的保持装置和所述卸载单元的保持装置定位成基本上彼此相邻,并配置成将可交换对象保持在这样的平面中,该平面基本上平行于在对图形化辐射光束进行投影的过程中保持在该可交换对象支撑件中的可交换对象所处的平面;其中,所述可交换对象支撑件配置成与每一所述保持装置交换可交换对象;以及其中,所述交换装置包括线型传输单元,其配置成以线性移动的方式将一个或多个可交换对象传输到所述装载单元和/或卸载单元以及从所述装载单元和/或卸载单元传输一个或多个可交换对象;所述交换装置包括自动机械,用于在所述线型传输单元和一个或多个构图部件站之间交换可交换对象。
地址 荷兰费尔德霍芬