发明名称 |
蚀刻衬底的装置 |
摘要 |
本发明揭示一种蚀刻衬底的装置,且更特定地说,涉及一种蚀刻衬底的装置,其中蚀刻剂是从顶部向下喷射到多个垂直装载衬底,以便随着蚀刻剂沿衬底的表面流动而使衬底的厚度变微薄;将蚀刻剂喷射到多个垂直装载衬底的喷射器件经排列为可从蚀刻腔的内部取出,以便促进维护;且安装到构成喷射器件的多个喷射模块的喷嘴的耦合位置经改进以防止渣滓积聚于喷嘴棒内部。 |
申请公布号 |
CN103241956A |
申请公布日期 |
2013.08.14 |
申请号 |
CN201210137087.8 |
申请日期 |
2012.05.02 |
申请人 |
MM技术股份有限公司 |
发明人 |
张承逸 |
分类号 |
C03C15/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;钟强 |
主权项 |
一种蚀刻衬底的装置,所述装置包含:蚀刻腔;箱子,所述箱子以至少一个衬底垂直地装载于所述箱子中的状态排列于所述蚀刻腔内部;和喷射器件,所述喷射器件排列于所述蚀刻腔内部以在所述箱子上方喷射蚀刻剂,所述喷射器件包含:框架供应管,所述框架供应管是通过在所述蚀刻腔中使四个框架管彼此连接而形成,所述框架供应管是矩形地且水平地安置并从外部接收所述蚀刻剂;支架,所述支架分别支撑构成所述框架供应管的所述四个框架管当中彼此相对的框架管以稳定地安放于所述蚀刻腔的内壁上;和多个喷射模块,每一个喷射模块的两端分别与构成所述框架供应管的所述四个框架管当中的所述相对框架管连通并耦合,且所述多个喷射模块从所述框架供应管接收所述蚀刻剂并将所述蚀刻剂喷射到所述衬底。 |
地址 |
韩国京畿道 |