| 发明名称 | 研磨清洗槽 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种研磨清洗槽，包括槽壁、滑轮和滚轮。其中，所述槽壁的一侧面上设置有第一圆柱体和第二圆柱体，所述第一圆柱体设置于槽壁的内侧，所述第二圆柱体设置于槽壁的外侧，所述滚轮套在第一圆柱体上，所述滑轮设置于第二圆柱体的外部，所述滑轮通过磁耦合驱动所述滚轮转动。本实用新型提供的研磨清洗槽通过磁耦合驱动研磨清洗槽内的滚轮转动清洗晶圆，槽壁无需密封圈连接，研磨清洗槽的结构能够保证不污染清洗液，更不会污染晶圆造成产品报废。 | ||
| 申请公布号 | CN203124336U | 申请公布日期 | 2013.08.14 |
| 申请号 | CN201320061816.6 | 申请日期 | 2013.02.01 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 | 发明人 | 冯惠敏 |
| 分类号 | B08B3/10(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种研磨清洗槽，其特征在于，包括：槽壁、滑轮和滚轮；其中，所述槽壁的一侧面上设置有第一圆柱体和第二圆柱体，所述第一圆柱体设置于槽壁的内侧，所述第二圆柱体设置于槽壁的外侧；所述滚轮套在第一圆柱体上；所述滑轮设置于第二圆柱体的外部；所述滑轮通过磁耦合驱动所述滚轮转动。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区（亦庄）文昌大道18号 | ||