用于半导体反应室的进气装置

摘要

本实用新型提供一种用于半导体反应室的进气装置，该进气装置包括进气法兰(1)、固定法兰(2)、MFC(3)、第一密封圈(4)、第二密封圈(5)和气流调节板(6)；固定法兰(2)通过第一密封圈(4)与进气法兰(1)气密连接，进气法兰(1)通过第二密封圈(5)与第一腔室(8)和第二腔室(9)气密连接；进气法兰(1)内设有第一进气通道(10)、第二进气通道(11)、横置的U型槽(12)、通孔(13)、导流斜坡(14)、横向进气通道(15)和喷气孔(16)，气流调节板(6)嵌入固定法兰(2)的一侧，U型槽(12)的开口朝向调节板(6)，U型槽(12)的下沿(18)通过圆弧形的凸缘(17)与导流斜坡(14)连接，凸缘(17)与气流调节板(6)之间形成导流细缝。所述进气装置适用于双层结构的半导体反应室，能够调节工艺气体气流的均匀性，并能够自动控制其流量。

主权项

用于半导体反应室的进气装置，其特征在于，该进气装置包括进气法兰(1)、固定法兰(2)、MFC(3)、第一密封圈(4)、第二密封圈(5)和气流调节板(6)；所述固定法兰(2)通过所述第一密封圈(4)与所述进气法兰(1)气密连接，所述进气法兰(1)通过所述第二密封圈(5)与第一腔室(8)和第二腔室(9)气密连接；所述进气法兰(1)内设有第一进气通道(10)、第二进气通道(11)、横置的U型槽(12)、通孔(13)、导流斜坡(14)、横向进气通道(15)和喷气孔(16)，所述MFC(3)通过管路(7)与所述第一进气通道(10)连通，所述第一进气通道(10)与所述U型槽(12)连通，所述气流调节板(6)嵌入所述固定法兰(2)的与所述进气法兰(1)连接的一侧，且与所述固定法兰(2)固接，所述U型槽(12)的开口朝向所述调节板(6)，所述U型槽(12)的下沿(18)通过圆弧形的凸缘(17)与所述导流斜坡(14)连接，所述凸缘(17)与所述气流调节板(6)之间形成导流细缝，所述通孔(13)设于所述导流斜坡(14)的下方，所述导流细缝经所述通孔(13)与所述第一腔室(8)连通，所述第二进气通道(11)与所述横向进气通道(15)连通，所述横向进气通道(15)上设有与所述第二腔室(9)连通的多个所述喷气孔(16)。