激光激发CVD镀膜设备

摘要

本实用新型提供了一种激光激发CVD镀膜设备，属于化学气相沉积（CVD）技术领域，包括壳体，该壳体具有密封的CVD腔体，CVD腔体内安装有用于喷出工作气体的喷气装置和用于将激光源聚焦于喷气装置喷嘴前端的激光聚焦装置，待镀膜材料位于喷气装置的喷嘴前端并与之相对。CVD腔体内安装有用于驱动喷气装置沿待镀膜材料表面平行移动的移动装置。喷气装置包括具有喷嘴的喷气架，激光聚焦装置包括聚焦激光源的聚焦头及用于接驳光纤的光纤接驳管，聚焦头与光纤接驳管连接，喷气架设有引入工作气体的进气口及用于安装聚焦头的聚焦头安装孔。本实用新型镀膜效率高、不易损坏待镀膜材料，且所镀出的膜厚均匀、镀膜表面光滑。

主权项

一种激光激发CVD镀膜设备，包括壳体，该壳体具有密封的CVD腔体，其特征在于：所述CVD腔体内安装有用于喷出工作气体的喷气装置和用于将激光源聚焦于喷气装置喷嘴前端的激光聚焦装置，待镀膜材料位于所述喷气装置的喷嘴前端并与之相对。