发明名称 |
确定覆盖误差的方法和动态控制中间掩模位置的控制系统 |
摘要 |
一种确定覆盖误差的方法。该方法包括将图案从中间掩模转印至晶圆以及选择第一组数据点以测量中间掩模上的部件与晶圆上的部件之间的位置差。该方法还包括确定第一组数据点但包含较少数据点的第二组数据点。控制系统使用第二组数据点来动态地调整中间掩模的位置。本发明还提供了动态控制中间掩模位置的控制系统。 |
申请公布号 |
CN103246152A |
申请公布日期 |
2013.08.14 |
申请号 |
CN201210195645.6 |
申请日期 |
2012.06.13 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
李永尧;王盈盈;蔡飞国;刘恒信 |
分类号 |
G03F1/00(2012.01)I;G03F1/44(2012.01)I;G03F1/76(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/00(2012.01)I |
代理机构 |
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 |
代理人 |
章社杲;孙征 |
主权项 |
一种减少覆盖误差的方法,包括:将部件的图案从中间掩模转印至晶圆;在第一组数据点处测量所述中间掩模上的图案和所述晶圆上的图案之间的位置差;基于所述第一组数据点确定第二组数据点,所述第二组数据点为所述第一组数据点的子集,其中,所述第二组数据点的位置表示所述第一组数据点中的至少一个的位置,并且所述第一组数据点的数量大于所述第二组数据点的数量;以及基于所述第二组数据点改变所述中间掩模的位置以使所述位置差最小。 |
地址 |
中国台湾新竹 |