发明名称 |
导电性膜卷的制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种导电性膜卷的制造方法,邻接的膜彼此不压接而能够维持高品质。本发明的制造方法包含:第1工序,边将膜基材的初始卷开卷,边通过溅射法在膜基材的一侧顺次层叠第1透明导电体层和第1铜层,将得到的第1层叠体卷成卷状,制成第1卷;第2工序,将该第1卷在大气中存放30小时以上,在第1铜层的表面形成含有氧化亚铜的氧化被膜层;第3工序,边将第1卷开卷,边在膜基材的另一侧通过溅射法顺次层叠第2透明导电体层和第2铜层,将得到的第2层叠体卷成卷状,制成第2卷。 |
申请公布号 |
CN103247389A |
申请公布日期 |
2013.08.14 |
申请号 |
CN201310048931.4 |
申请日期 |
2013.02.06 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
藤野望;鹰尾宽行;石桥邦昭 |
分类号 |
H01B13/00(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I |
主分类号 |
H01B13/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种导电性膜卷的制造方法,其特征在于,所述导电性膜卷的制造方法包含如下工序:第1工序,在膜基材的一侧通过溅射法顺次层叠第1透明导电体层和第1铜层,将得到的第1层叠体卷成卷状,制成第1卷,第2工序,将所述第1卷在大气中存放30小时以上,在所述第1铜层的表面形成含有氧化亚铜的氧化被膜层,第3工序,边将所述第1卷开卷,边在所述膜基材的另一侧通过溅射法顺次层叠第2透明导电体层和第2铜层,将得到的第2层叠体卷成卷状,制成第2卷。 |
地址 |
日本大阪府 |