发明名称 评估模型之方法,检查装置及微影装置
摘要 本发明呈现一种评估一基板之一模型的方法。使用在一第一波长下之辐射而采取一散射量测。接着改变该辐射之该波长且采取一另一散射量测。若该等散射量测跨越一波长范围为一致的,则该模型足够精确。然而,若该等散射量测随着该波长改变而改变,则该基板之该模型不足够精确。
申请公布号 TWI405046 申请公布日期 2013.08.11
申请号 TW098111401 申请日期 2009.04.06
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 丹 伯夫 艾瑞 杰佛瑞;克瑞马 雨果 奥格斯提纳斯 约瑟夫;范 戴 克豪夫 马卡斯 安德纳斯;皮勒曼 汉瑞克 皮杜斯 玛利亚;艾伯特 马汀
分类号 G03F7/20;G01B9/08;G02B27/46 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰