发明名称 |
评估模型之方法,检查装置及微影装置 |
摘要 |
本发明呈现一种评估一基板之一模型的方法。使用在一第一波长下之辐射而采取一散射量测。接着改变该辐射之该波长且采取一另一散射量测。若该等散射量测跨越一波长范围为一致的,则该模型足够精确。然而,若该等散射量测随着该波长改变而改变,则该基板之该模型不足够精确。 |
申请公布号 |
TWI405046 |
申请公布日期 |
2013.08.11 |
申请号 |
TW098111401 |
申请日期 |
2009.04.06 |
申请人 |
ASML荷兰公司 荷兰 |
发明人 |
丹 伯夫 艾瑞 杰佛瑞;克瑞马 雨果 奥格斯提纳斯 约瑟夫;范 戴 克豪夫 马卡斯 安德纳斯;皮勒曼 汉瑞克 皮杜斯 玛利亚;艾伯特 马汀 |
分类号 |
G03F7/20;G01B9/08;G02B27/46 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |