发明名称 |
面射型雷射、面射型雷射阵列、光学扫描装置以及影像形成设备 |
摘要 |
所揭示的面射型雷射包括:一基板;和多个半导体层,堆叠在该基板上。该基板之一主平面的一法线相对于晶体定向<100>的其中之一而朝晶体定向<111>的其中之一倾斜。该半导体层包括:一谐振器结构,包括一主动层;及一半导体多层镜,堆叠在该谐振器结构上。该半导体多层镜包括一限制结构,其中一电流通过区系由至少包括一氧化物的一氧化区所包围,该氧化区系藉由将含铝之一选择性氧化层的一部分氧化所产生。藉由该氧化所产生的一应变场至少存在于该氧化区附近的一部分中。在该应变场中,一第一轴方向中的应变量不同于一第二轴方向中的应变量。 |
申请公布号 |
TWI405378 |
申请公布日期 |
2013.08.11 |
申请号 |
TW098115879 |
申请日期 |
2009.05.13 |
申请人 |
理光股份有限公司 日本 |
发明人 |
石井稔浩;牧田宪吾;轴谷直人;原坂和宏;佐藤俊一;菅原悟 |
分类号 |
H01S5/183 |
主分类号 |
H01S5/183 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |