发明名称 光阻剥离组成物及剥离光阻之方法
摘要 本发明系有关于一种光阻剥离组成物。尤其,本发明之光阻剥离组成物包括式1所示之化合物,其具有优异的光阻剥离力,且当钼(Mo)包含于光阻下层膜时,其对于光阻下层膜展现优异的抗腐蚀效果。
申请公布号 TWI405053 申请公布日期 2013.08.11
申请号 TW098140560 申请日期 2009.11.27
申请人 LG化学公司 南韩 发明人 闵盛晙;权赫俊;朴珉春
分类号 G03F7/42;H01L21/027 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 吴冠赐 台北市松山区敦化北路102号9楼;苏建太 台北市松山区敦化北路102号9楼
主权项
地址 南韩